
功率開關(guān)器件是電力電子技術(shù)的核心,其作用就像一個(gè)高速、可控的電路“閥門”。它通過(guò)對(duì)自身“通”(導(dǎo)通,阻抗極小)和“斷”(關(guān)斷,阻抗極大)狀態(tài)的精確控制,來(lái)高效地處理和控制電路中的電能(電壓、電流、頻率等)。
按器件結(jié)構(gòu)和發(fā)展歷程分類(更技術(shù)化的視角)
傳統(tǒng)器件(第一代)
晶閘管 (SCR):半控型,耐壓高、電流大,但開關(guān)速度慢。主要用于高壓直流輸電、大功率工業(yè)加熱等低頻、大功率場(chǎng)合。
現(xiàn)代器件(第二代及以后)
功率MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor FET):
電壓控制型,驅(qū)動(dòng)電路簡(jiǎn)單,驅(qū)動(dòng)功率小。
開關(guān)速度極快(可達(dá)MHz級(jí)別),開關(guān)損耗小。
缺點(diǎn):導(dǎo)通電阻隨耐壓升高而急劇增大,所以在高電壓下導(dǎo)通損耗很大。
應(yīng)用:主要用于中低壓、高頻場(chǎng)合,如開關(guān)電源(PC電源、手機(jī)充電器)、高頻逆變器。
IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor):
可以看作是 MOSFET 和 BJT 的復(fù)合器件。它繼承了MOSFET電壓控制(驅(qū)動(dòng)簡(jiǎn)單)的優(yōu)點(diǎn),又繼承了BJT導(dǎo)通壓降低(高電壓下導(dǎo)通損耗小)的優(yōu)點(diǎn)。
開關(guān)速度介于MOSFET和晶閘管之間。
缺點(diǎn):有電流拖尾現(xiàn)象,限制了其最高開關(guān)頻率。
應(yīng)用:是當(dāng)前中高電壓、中頻領(lǐng)域的絕對(duì)主力,如工業(yè)電機(jī)驅(qū)動(dòng)、新能源汽車、變頻家電、電焊機(jī)、光伏逆變器等。
寬禁帶半導(dǎo)體器件(第三代半導(dǎo)體):這是當(dāng)前的技術(shù)前沿,使用碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)材料。
SiC MOSFET:耐壓更高、開關(guān)速度比硅IGBT快得多,高溫性能好。主要用于追求高效率和高功率密度的場(chǎng)合,如新能源汽車主驅(qū)逆變器、高端服務(wù)器電源、軌道交通。
GaN HEMT:開關(guān)速度比SiC MOSFET更快,但耐壓相對(duì)較低。主要用于超高頻應(yīng)用,如快充充電頭、數(shù)據(jù)中心48V轉(zhuǎn)換、5G基站射頻功放。
功率開關(guān)器件的主要作用
一、電能變換:這是最基本和核心的作用。包括:
整流(AC-DC):將交流電轉(zhuǎn)換為直流電。
逆變(DC-AC):將直流電轉(zhuǎn)換為交流電。
直流變換(DC-DC):將一種電壓的直流電轉(zhuǎn)換為另一種電壓的直流電。
交流變換(AC-AC):改變交流電的電壓或頻率。
二、電路控制:通過(guò)控制開關(guān)的占空比(導(dǎo)通時(shí)間與周期的比例)或相位,來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)電壓、電流或功率的平滑調(diào)節(jié)。
三、提高能效:理想開關(guān)在導(dǎo)通時(shí)沒(méi)有損耗,關(guān)斷時(shí)沒(méi)有漏電。現(xiàn)代功率器件非常接近這一理想狀態(tài),從而極大地減少了能量在轉(zhuǎn)換過(guò)程中的損耗,提高了整個(gè)系統(tǒng)的效率。
應(yīng)用領(lǐng)域:從家用電器(空調(diào)、洗衣機(jī))、手機(jī)充電器,到工業(yè)電機(jī)驅(qū)動(dòng)、新能源汽車、軌道交通、可再生能源(光伏、風(fēng)電)發(fā)電系統(tǒng)、數(shù)據(jù)中心電源等,幾乎所有涉及電能處理的場(chǎng)合都離不開功率開關(guān)器件。
| 文檔名稱 | 內(nèi)容描述 | 屬性 | 發(fā)布日期 |
|---|---|---|---|
| LLC諧振電路應(yīng)用中功率開關(guān)管如何選型 | LLC變換器設(shè)計(jì)步驟、功率開關(guān)管如何選型 | 功率開關(guān)管在LLC電路中,沒(méi)有更好,只有適合 | 2020/09/15 |
| 功率MOSFET基本原理 | 功率器件分類、VD MOSFET與SJ MOSFET特性與制造工藝、SiC與GaN MOSFET Cell構(gòu)成 | Si MOSFET、SiC/GaN MOSFET單元結(jié)構(gòu)及Si MOSFET制造工藝 | 2015/07/05 |
| 功率MOSFET開關(guān)過(guò)程分析及其對(duì)EMI影響 | MOSFET的關(guān)鍵動(dòng)態(tài)參數(shù)解讀 、開關(guān)瞬態(tài)過(guò)程分析、外圍參數(shù)對(duì)EMI影響 | MOSFET的 Cgs、Cgd、Csd及外圍增加Rg Bead core或Csd、Cgd對(duì)EMI影響 | 2015/07/05 |
地址:蘇州工業(yè)園區(qū)蘇虹東路177號(hào)方正智谷
電話:+86 512-62373510
傳真:+86 512-62373512
E-mail:weixiliu@jypower.cn
地址:深圳市光明區(qū)華強(qiáng)創(chuàng)意產(chǎn)業(yè)園A5幢
電話:1866-2166-251
E-mail:Stevenshi@jypower.cn
Copyright ? 蘇州吉遠(yuǎn)電子科技有限公司. All Rights Reserved 備案號(hào):蘇ICP備11046326號(hào)-2
網(wǎng)站地圖 | 法律聲明 | 隱私政策 |